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Autor:  

Semmler, Egmont

Titel:  

Characterization of multiple frequency driven capacitively coupled plasmas for ferro-metallic thin film sputter deposition


Dissertation 
URN:  urn:nbn:de:hbz:294-23761
URL:  http://www-brs.ub.ruhr-uni-bochum.de/netahtml/HSS/Diss/SemmlerEgmont/diss.pdf
Format:  application/pdf (3.4 M)
Kommentar:  Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik. Tag der mündlichen Prüfung: 2008-08-14

Inhaltsverzeichnis
Datei:  http://www-brs.ub.ruhr-uni-bochum.de/netahtml/HSS/Diss/SemmlerEgmont/Inhaltsverzeichnis.pdf
Format:  application/pdf (66.7 k)

Zusammenfassung
Datei:  http://www-brs.ub.ruhr-uni-bochum.de/netahtml/HSS/Diss/SemmlerEgmont/Zusammenfassung.pdf
Format:  application/pdf (91.7 k)

Schlagworte:  Atomemissionsspektroskopie; PVD-Verfahren; Plasmadiagnostik; Hochfrequenzplasma; Plasmaaufheizung

Inhalt der Arbeit: 

Diese Dissertation untersucht den Einfluss externer Steuerparameter auf kapazitiv gekoppelte Mehrfrequenzplasmen im Hinblick auf die PVD-Abscheidung metallischer Schichten. Dabei spielen die Kopplung dieser Parameter untereinander und deren kollektiver Einfluss auf Plasma- und Abscheidekenngrößen eine wesentliche Rolle. Diese Mechanismen werden detailliert untersucht und offengelegt. Die postulierte vollständige Entkopplung von Ionenfluss und -energie für typische Parameterbereiche der Sputterabscheidung sind nicht realisierbar. Jedoch kann gezeigt werden, dass sich ein adäquater Arbeitsbereich für industrielle Anforderungen finden lässt. Änderungen der relativen Phasenlage erlauben einen direkten Eingriff in Anregungsmechanismen des Plasmas und somit auch des Ionenflusses auf das Sputtertarget. Abscheideversuche zeigen ein komplexes Verhalten der Depositionsrate mit dem Leistungsverhältnis, wobei optimale Arbeitspunkte definiert und mit Diagnostikmethoden verifiziert werden konnten.


Angaben des Autors:
E-Mail:  egmont.semmler@rub.de
Homepage: 
Teile der Arbeit veröffentlicht in:  

Heating of a dual frequency capacitively coupled plasma via the plasma series resonance / E. Semmler, P. Awakowicz and A. von Keudell
In: Plasma sources science & technology, Bd. 16.2007, S. 839 - 848