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Autor:  

Meßerer, Peter

Titel:  

Investigations and development of plasma surface processes : etching of semiconductors and sterilisation of polymers


Dissertation 
URN:  urn:nbn:de:hbz:294-29714
URL:  http://www-brs.ub.ruhr-uni-bochum.de/netahtml/HSS/Diss/MessererPeter/diss.pdf
Format:  application/pdf (7.2 M)
Kommentar:  Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik. Tag der mündlichen Prüfung: 2010-07-02

Inhaltsverzeichnis
Datei:  http://www-brs.ub.ruhr-uni-bochum.de/netahtml/HSS/Diss/MessererPeter/Inhaltsverzeichnis.pdf
Format:  application/pdf (71.8 k)

Zusammenfassung
Datei:  http://www-brs.ub.ruhr-uni-bochum.de/netahtml/HSS/Diss/MessererPeter/Zusammenfassung.pdf
Format:  application/pdf (73.3 k)

Abstract
Datei:  http://www-brs.ub.ruhr-uni-bochum.de/netahtml/HSS/Diss/MessererPeter/Abstract.pdf
Format:  application/pdf (73.6 k)

Schlagworte:  Plasma; Plasmaätzen; Plasma-Simulation; Sterilisation; Messung

Inhalt der Arbeit: 

Es wurde der Einfluss von Plasmen auf Materialien untersucht. Dabei wurden Langmuir-Sonden, SEERS, Aktinometrie, UV-Spektroskopie und energieaufgelöster Massenspektroskopie an zwei verschiedenen Plasmareaktoren benutzt, zum einen an einem CCP-Reaktor zur Bearbeitung von Halbleiterwafern, zum anderen an einem neu entwickeltem DICP-Reaktor zur Sterilisation von thermolabilen Objekten. Die Messungen an reaktiven Plasmen am CCP Reaktor wurden mit einer Langmuir-Sonde, einem SEERS Sensor und durch REM-Bilder durchgeführt. Die Plasmaparameter des DICP-Reaktors wurden durch eine Kombination von verschiedenen sich überlappenden Meßmethoden in Verbindung mit einem Simulationsprogramm ermittelt. Dabei wurde eine sehr gute Übereinstimmung zwischen Simulation und Messung gefunden. Ein sehr effektiv sterilisierendes Gasgemisches wurde entwickelt. Da der Hauptgrund der Sterilisation aufgedeckt wurde, kann nun beim Auffinden neuer Prozesse eine schnelle kostengünstige Vorauswahl getroffen werden.


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